产品包括3nm PTFE膜高精度气体过滤器，1.5nm SUS316L膜高精度气体过滤器和扩散器；公司产品还包括在半导体CMP工艺、化学湿法清洗工艺、电镀工艺、湿法腐蚀以及光刻工艺上用的高精度过滤器；公司还为浸没式光刻机提供POU超纯水系统。